Intel и Micron представиха нов 20 nm технологичен процес за флаш памет
Секция: КУЛТУРА
15 Април 2011 07:11
Моля, помислете за околната среда, преди да вземете решение за печат на този материал.
Вашата Информационна агенция "КРОСС".

Please consider the environment before deciding to print this article.
Information agency CROSS
София /КРОСС/  Intel Corporation и Micron Technology Inc. днес представиха нов, по-фин 20 nm технологичен процес за производство на NAND флаш памет. По новия 20nm процес се произвежда multi-level cell (MLC) NAND флаш устройство с капацитет от 8 GB, което осигурява по-голям капацитет в малък формат за съхранение на музика, видео, книги и друга информация върху смартфони, таблети и компютърни решения като твърдотелни дискове (SSDs), съобщиха от Intel.
Нарастването на обема за съхранението на данни, в комбинация с подобренията на характеристиките за таблети и смартфони, създава ново търсене за NAND флаш технолоията, особено за решения с по-голям капацитет в по-малък формат. Размерите на новото 20nm устройство с капацитет то 8GB са само 118 mm2, което води до намаляване на пространството, което заемат с от 30% до 40% (в зависимост от вида на пакета), в сравнение с настоящите 25nm 8GB NAND устройства на компанията. Намаляването на пространството за съхранение на данни върху флаш устройството осигурява по-високо ниво на ефективност на системата, като позволява на производителите на таблети и смартфони да използват допълнителното пространство за усъвършенстване на крайните продукти с например по-голяма батерия, по-широк екран, или добавяне на друг чип, който да оперира с нови характеристики.
/ВС/